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等离子去胶机
最后更新:2016-05-11
点击数:
5534
厂 商
德国PVA TePla
型 号
IoN Wave 10
技术指标
石英腔室:直径248mm,深245mm,体积11.3L配备O2和Ar两种工艺气体,MFC控制极限真空0.07mbar,工作压力0.5-1.5mbar2.45GHz微波电源,输出功率0~600w可调控制器选项:基于Windows操作系统的触摸屏界面提供全自动的控制多工步菜单,实时图形显示,多级别密码进入,数据记录以及所有等离子体参数的实时SPC(统计过程控制)监控自动工艺菜单或手动等离子体处理
应用领域
光刻或刻蚀工艺后去除光刻胶,或半导体生产中用于晶圆的清洁和等离子体预处理
责任工程师
方芬珍