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等离子去胶机
最后更新：2016-05-11点击数：5534

厂商德国PVA TePla

型号IoN Wave 10

技术指标石英腔室：直径248mm，深245mm，体积11.3L配备O2和Ar两种工艺气体，MFC控制极限真空0.07mbar，工作压力0.5-1.5mbar2.45GHz微波电源，输出功率0～600w可调控制器选项：基于Windows操作系统的触摸屏界面提供全自动的控制多工步菜单，实时图形显示，多级别密码进入，数据记录以及所有等离子体参数的实时SPC（统计过程控制）监控自动工艺菜单或手动等离子体处理

应用领域光刻或刻蚀工艺后去除光刻胶，或半导体生产中用于晶圆的清洁和等离子体预处理

责任工程师方芬珍

人工微结构科学与技术协同创新中心collaborative innovation center of advanced microstructures