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离子束刻蚀系统
最后更新：2016-04-13点击数：6201

厂商中国北京创世微纳

型号IBE150

技术指标离子能量Ei=0 -1000eV离子束流密度峰值Jb≥0.7mA/cm2 台面直径：Φ150mm倾角范围：0°~ 90°±0.5°旋转速率：≥9rpm功能：刻蚀、表面抛光等功能

应用领域用于刻蚀较难刻蚀的物质及金属

责任工程师方芬珍

人工微结构科学与技术协同创新中心collaborative innovation center of advanced microstructures