人工微结构科学与技术协同创新中心
微加工中心
导航
首页
中心简介
仪器设备
反应离子溅射
SF100无掩膜光刻机
PVD75 电子束蒸发
Plasmalab 80Plus PEC...
ULVAC CE300I电感耦合...
IBE150离子束刻蚀
PVA TePla等离子体清...
MJB4紫外光刻机
PVD75 磁控溅射
CRX-4K 探针台
80RC 匀胶机
DEKTAK 150 台阶仪
VM-1220 膜厚仪
7476D 焊线机
国产匀胶机
等离子去胶机test
机时预约
收费标准
通知通告
规章制度
文档下载
管理人员
联系我们
登入
离子束刻蚀系统
最后更新:2016-04-13
点击数:
6201
厂 商
中国 北京创世微纳
型 号
IBE150
技术指标
离子能量Ei=0 -1000eV离子束流密度峰值Jb≥0.7mA/cm2 台面直径:Φ150mm倾角范围:0°~ 90°±0.5°旋转速率:≥9rpm功能:刻蚀、表面抛光等功能
应用领域
用于刻蚀较难刻蚀的物质及金属
责任工程师
方芬珍