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无掩膜紫外光刻机
最后更新：2016-04-13点击数：6952

厂商美国 Intelligent Micro Patterning, LLC

型号SF 100

技术指标汞灯光源：365nm，434nm镜头：3个（4倍、10倍、20倍）曝光精度：4倍镜头—5μm，10倍镜头—2μm，20倍镜头—1μm曝光方法：非接触式，区域曝光单个曝光区域最大：4倍：1.28×0.96 mm2；10倍：0.512×0.384 mm2；20倍：0.256×0.192 mm2 对准方式：可手动、自动对准图形尺寸：最大4英寸接收图形格式：JPEG、Bitmap、DXF(R12)和DWG(R14、LT98/97)特点：无需掩膜版，可通过画图、CAD等软件画出所需曝光图形

应用领域利用紫外光源，制作微米尺度的图形

责任工程师陈莉

人工微结构科学与技术协同创新中心collaborative innovation center of advanced microstructures