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无掩膜紫外光刻机
最后更新:2016-04-13
点击数:
6952
厂 商
美国 Intelligent Micro Patterning, LLC
型 号
SF 100
技术指标
汞灯光源:365nm,434nm镜头:3个(4倍、10倍、20倍)曝光精度:4倍镜头—5μm,10倍镜头—2μm,20倍镜头—1μm曝光方法:非接触式,区域曝光单个曝光区域最大:4倍:1.28×0.96 mm2;10倍:0.512×0.384 mm2;20倍:0.256×0.192 mm2 对准方式:可手动、自动对准图形尺寸:最大4英寸接收图形格式:JPEG、Bitmap、DXF(R12)和DWG(R14、LT98/97)特点:无需掩膜版,可通过画图、CAD等软件画出所需曝光图形
应用领域
利用紫外光源,制作微米尺度的图形
责任工程师
陈莉