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磁控溅射系统
最后更新:2016-04-07
点击数:
11459
厂 商
美国 Kurt J. Lesker
型 号
PVD75
技术指标
衬底尺寸:最大4英寸,向下兼容靶位:4个2英寸溅射电源:2个射频源;2个直流源衬底温度:室温至800℃工艺气体:Ar,由MFC控制
应用领域
用于各种薄膜材料的溅射沉积
责任工程师
黄春玉