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磁控溅射系统
最后更新：2016-04-07
点击数：
11459
厂 商
美国 Kurt J. Lesker
型 号
PVD75
技术指标
衬底尺寸：最大4英寸，向下兼容靶位：4个2英寸溅射电源：2个射频源；2个直流源衬底温度：室温至800℃工艺气体：Ar，由MFC控制
应用领域
用于各种薄膜材料的溅射沉积
责任工程师
黄春玉
