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    最后更新:2016-04-13点击数:6917

    厂    商日本 ULVAC
    型    号CE-300I
    技术指标ICP源:1000WRF源:300W样品尺寸:1片4英寸,向下兼容;工艺气体:CF4、CHF3、SF6、O2和Ar均匀性优于5%激光干涉式终点探测器
    应用领域用于硅、氧化硅、氮化硅等硅基材料和有机物刻蚀,适用于多种具有高深宽比或高精细微纳结构与器件的制作
    责任工程师方芬珍

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