微加工中心

导航

电感耦合－反应等离子体刻蚀系统
最后更新：2016-04-13点击数：6917

厂商日本 ULVAC

型号CE-300I

技术指标ICP源：1000WRF源：300W样品尺寸：1片4英寸，向下兼容；工艺气体：CF4、CHF3、SF6、O2和Ar均匀性优于5％激光干涉式终点探测器

应用领域用于硅、氧化硅、氮化硅等硅基材料和有机物刻蚀，适用于多种具有高深宽比或高精细微纳结构与器件的制作

责任工程师方芬珍

人工微结构科学与技术协同创新中心collaborative innovation center of advanced microstructures