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电子束（热）蒸发系统
最后更新：2016-04-07点击数：6589

厂商美国 Kurt J. Lesker

型号PVD75

技术指标衬底尺寸：最大4英寸，向下兼容坩埚尺寸：4个8cc蒸发源衬底温度：加热至800℃配备一个热蒸发源配备辅助沉积的离子束源工艺气体：Ar/O2，MFC控制配有膜厚仪实时对膜厚进行检测，实现对薄膜的厚度的精确控制

应用领域可沉积各种金属材料包括难熔金属、绝缘材料的高纯度、高质量薄膜样品

责任工程师黄春玉

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