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等离子体增强化学气相沉积系统
最后更新：2016-04-07点击数：42

厂    商英国 Oxford Instruments

型    号Plasmalab system 80 plus

技术指标工艺气体：N2O, SiH4, NH3, N2    l 清洗气体: CF4/O2 混合气体   l 样品尺寸：最大8英寸,向下兼容   l 射频源：高频: 13.56 MHz；低频: 50~450 kHz   l 控温范围：室温至400℃

应用领域可沉积氧化硅、氮化硅等材料，能够实现对沉积厚度的精确控制，还可以通过改变反应气体组分在一定范围内调节沉积薄膜的折射率

责任工程师黄春玉

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