电感耦合-反应等离子体刻蚀系统

最后更新:2016-04-13点击数:6917

  • ICP源:1000W

  • RF源:300W

  • 样品尺寸:1片4英寸,向下兼容;

  • 工艺气体:CF4、CHF3、SF6、O2和Ar

  • 均匀性优于5%

  • 激光干涉式终点探测器