等离子体增强化学气相沉积系统

最后更新:2016-04-07点击数:42

工艺气体:N2O, SiH4, NH3, N2    

l 清洗气体: CF4/O2 混合气体   

l 样品尺寸:最大8英寸,向下兼容   

l 射频源:高频: 13.56 MHz;低频: 50~450 kHz   

l 控温范围:室温至400℃