最后更新：2016-04-07点击数:6589
衬底尺寸：最大4英寸，向下兼容
坩埚尺寸：4个8cc蒸发源
衬底温度：加热至800℃
配备一个热蒸发源
配备辅助沉积的离子束源
工艺气体：Ar/O2，MFC控制
配有膜厚仪实时对膜厚进行检测，实现对薄膜的厚度的精确控制
