| 设备类型 | 仪器名称
| 操作培训费 | 起步时间 | 校外收费 | 对校内优惠价格 | 备注 |
| 元/人 | 小时 | 元/小时 | 元/小时 | 年累计机时（小时） | 元/小时 | 年累计机时（小时） |
| 曝光 | 紫外光刻机 | 1000 | 0.5 | 400 | 200 | ≤30 | 50 | ＞30 | 全套光刻不另计匀胶、显影费用。仅限微加工中心提供的光刻胶和显影液，其余光刻胶和显影液自备 |
| 无掩膜紫外光刻机 | 1000 | 0.5 | 600 | 300 | ≤20 | 100 | ＞20 |
| 电子束光刻机 |
| 0.5 | 1500 | 全套光刻不另计匀胶、显影费。仅限设备提供的光刻胶和显影液，特殊需求的光刻胶和显影液自备。 |
| 匀胶机（含热板） |
| 0.25 | 200 | 100 | ≤20 | 50 | ＞20 | 限于微加工中心提供的光刻胶，每次不超过10毫升，其余自备。此价格针对单独申请匀胶机的用户 |
| 显影机 |
| 0.25 | 200 | 100 | ≤20 | 50 | ＞20 | 价格针对单独申请显影的用户，显影耗材另计。 |
| 刻蚀 | 电感耦合-反应等离子体刻蚀系统(ICP) | 1000 | 0.5 | 400 | 200 | ≤20 | 50 | ＞20 |
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| 离子束刻蚀系统 | 1000 | 1 | 200 | 100 | ≤20 | 50 | ＞20 |
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| 等离子去胶机 | 300 | 0.5 | 200 | 100 | ≤20 | 50 | ＞20 |
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| 酸碱腐蚀清洗台 |
| 0.5 | 100 | 50 |
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| 不包含化学试剂 |
| 薄膜生长 | 电子束（热）蒸发系统 | 1500 | 4 | 200 | 100 | ≤50 | 50 | ＞50 | 微加工实验室配置的低值耗材已包含在内，其余特殊或高值源材料、蒸发源和坩埚自备 |
| 磁控溅射系统 | 1500 | 4 | 200 | 100 | ≤50 | 50 | ＞50 | 微加工实验室配置的低值耗材已包含在内，其余特殊或高值靶材自备 |
| 反应溅射系统 | 1000 | 1.5 | 150 | 100 | ≤50 | 50 | ＞50 | 微加工实验室配置的低值耗材已包含在内，其余特殊或高值靶材自备 |
| 等离子增强化学气相沉积系统(PECVD) | 1000 | 0.5 | 500 | 250 | ≤20 | 100 | ＞20 | |
| 管式退火炉 | 300 | 0.5 | | | ≤20 | | ＞20 | 氧气工艺 |
| | | ≤20 | | ＞20 | 氮气工艺 |
| 快速退火炉 | 300 | 0.5 | 150 | 75 | ≤20 | 50 | ＞20 |
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| 测试 | 探针台 | 300 | 0.5 | 150 | 100 | ≤20 | 50 | ＞20 |
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| 台阶仪 |
| 0.25 | 150 | 100 |
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| 膜厚仪 |
| 0.25 | 150 | 100 |
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| 显微镜 |
| 0.25 | 100 | 50 |
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| 申请光刻工艺的用户直接加500元包年使用费，单独使用显微镜的用户按时计费 |
| 封装 | 砂轮划片机 | - |
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| 硅片、氧化硅/硅片 全套代加工 |
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| 石英、蓝宝石 全套代加工 |
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| 铌酸锂 全套代加工 |
| 锲焊机 |
| 0.25 | 100 | 50 |
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| 含铝线价格 |
| 超净间使用费 |
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| 20元/人/次 | 10元/人/次 |
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| 包年费300元/人/年 |
| 单步工艺委托加工按1:1收取委托加工费用，产品研发、项目合作等面议 |
